
工藝說明:
1、計(jì)量院區(qū)熔計(jì)量設(shè)備有2套溫場,可以用不同生長速率和不同組分來做比較試驗(yàn)。
2、區(qū)熔爐膛用手工方法微調(diào)保溫層厚度和長度來確定溫度梯度,在爐膛測溫孔可以測定晶體生長所需溫度梯度和合適溫場。
3、生長軸長:800mm
4、自動移動速率:5~10mm/時(shí)(控制精度0.1㎜)
5、快速移動速率:5-20mm/分
6、不銹鋼溫場架2套
7、可調(diào)節(jié)上下托盤,帶真空KF接口
8、獨(dú)立控制柜,液晶觸摸屏顯示,以實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)的存儲、輸出,可通過U盤復(fù)制到計(jì)算機(jī)上,曲線實(shí)時(shí)顯示屏;讓程序設(shè)置更快捷,設(shè)備運(yùn)行狀態(tài)更直觀,設(shè)定數(shù)據(jù)和操作都是圖文界面,操作方便;針對數(shù)據(jù)的存儲、輸出,可以預(yù)設(shè)多條加熱曲線,可通過USB接口復(fù)制數(shù)據(jù)到計(jì)算機(jī)上長期保存。
技術(shù)參數(shù):
網(wǎng)站導(dǎo)航
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晶體石英系列
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實(shí)驗(yàn)設(shè)備系列
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中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所紅外光學(xué)材料研究中心光電子材料儀器事業(yè)部
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